1．离子源
离子能量：1－10千伏

离子电流：>200mA(每离子源)
源电流：高至3.5m A(每离子源)

离子电流密度：10m A/cm²(每离子源)

FWHM: 0.8mm（10千伏）2.5mm（2千伏）

气体：氩气(其它气体也可)

气体流：<1sccm/自动控制离子源
2.角度设置
枪倾斜度：±45度
样品台倾斜度：－5度－210度;研磨角度：0度－90度（取决于样品台）
3.样品偏差：为了达到样品表面0^o离子入射，在样品台加上正高压（大于3.5千伏）

选件 LZ 00128 VN

4.样品台：
TEM:

快速夹紧样品台（低至±4度）   LZ01631 VN

石墨样品台（低至0度）        LZ00135 VN 选件

单面低角度研磨样品台          LZ00131 VN选件

快速夹紧样品台的安装/定中心   LZ01632 VN 选件

SEM:

标准样品台           LZ00134 VN选件

25mm样品的样品台   LZ 04040 VN选件

45度斜切样品台      LZ00132 VN选件

90度斜切样品台      LZ02631选件

调节样品台的通用夹具 ：

（用于LZ00135VN，LZ00131VN，LZ00134VN，LZ00132VN，LZ02631VN）选件 LZ00056VN

5.样品台的移动：

旋转（0.5－3rpm）

摆动（±90度,以1度为步幅）以1度为步幅的零点设定

在X轴方向移动（±3mm;准确度0.1mm）
倾斜度：－5度－210度

6.溅射台：

用不同靶极材料就地为TEM和SEM样品镀膜   LZ04037 VN选件
7.马达驱动器：

带增量解码器的计算机控制的DC马达用于样品台移动，研磨角度设定，负载锁定器移动

8.照明：直接和背后照明

9.计算机：

带触摸屏，PC控制 ，BAL-TEC RES 101软件监控研磨进程；

局域网使外部操作监控得以实现  LZ01679VN选件
10.视频监控：具有0.2－2光学放大的机动变焦的CCD彩色摄像头

11.自动开关：

光学影像处理自动终止（灵敏度可调）
法拉第筒（用于完全透光的样品） 选件 LZ04043 VN
12.真空系统：

无油二级系统，包括：隔膜泵和分子泵（70l/s）

计算机控制气体进口阀

样品转移后一分钟内真空负载锁定，真空腔内恒定高真空

最高真空：<2×10-6mbar

13.样品冷却：液氮冷却  LZ 04052 VN选件