| 特点：
· 保养容易的自立型护罩
· 自动升降系统使用仪器容易补给及设置不同的蒸发源
· 带安全系统的快速点击系统可最快及最简单地更换镀膜系统
· 底缘在真空室底部开放可使用从底部向上蒸发
· 附加轮缘在真空室底部开放可进行不同的应用
· 涡轮分子泵系统使用系统真空度极高
· 通用控制装置可用于镀膜、真空测量及抽吸控制
· 可选择不同的真空室
- 大玻璃真空室适用于更远距离的蒸发
- 金属真空室可用于大多数应用
- 专业的真空室适用于为大样品（晶片、圆片等）镀膜
- 三倍冷却溅射装置用于极重传导层及层系统
· 标准设计，使操作转换快速而容易
- 辅助附件用于高分辩率铬、铂及钨镀膜
- 精确控制样品冷台温度，使结果具有重复性
- 可进行复制，带两个电子束放射的快速释放轮缘和外部可调的摇摆旋转台 |
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